探索发现 · 学术讲座
基于等离激元掩模板的分子取向光刻技术及其应用
讲座时间：2019-06-19 上午10点
讲座地点： 闵行校区化学A楼 化学A楼528室报告厅
主讲人：韦齐和教授 美国肯特州立大学，液晶研究所
主办单位：化学化工学院
联系人：江平开 教授
邀请人：江平开 教授
韦齐和现任美国肯特州立大学液晶研究所教授。韦教授毕业于南京大学物理系，于1993年获得了凝聚态物理学博士学位，导师为闵乃本院士。他对单通道扩散、等离子耦合、低对称性胶体粒子的Brownian运动，光控分子取向等一系列问题做出了原创性的贡献。他曾是德国洪堡学者和美国国家科学基金会CAREER奖的获得者。他目前的研究领域包括液晶物理与材料工程、胶体材料、仿生学和纳米制造。
控制分子取向是制造所有液晶器件的关键步骤。传统的液晶器件中，分子在基片表面的排列是均匀的。而很多新型的液晶器件，如Pancharatnam光学元件、刺激响应性液晶高分子和可设计的液晶折纸，都依赖于空间上的非均匀分子取向。韦教授将介绍一种新的基于等离子激元掩模板的分子取向光刻技术。与传统光刻的掩模板不通，等离子激元掩模板通过产生光偏振方向的空间调制，来诱导偶氮染料分子的空间取向。通过设计偏振方向的空间图案 （即偶氮染料分子的取向图案），可以实现任意需要的二维和三维液晶分子取向图案。这种等离激元光刻技术有高分辩率和高产量的特点，使许多以前不可能的应用成为可能。报告将介绍等离子激元掩模板的设计及该技术的一些新的应用，包括调控活性物质、平面光学元件以及刺激性响应的微观结构等。