交大要闻

上海交通大学第三期“未来科技论坛”聚焦中子小角散射,热议新型表征技术

10月15日,上海交通大学第三期“未来科技论坛”在闵行校区图书信息楼8楼报告厅举行。论坛以“中子小角散射表征技术”为主题,邀请来自上海交通大学、中国工程物理研究院、中国科学院长春应用化学研究所及香港城市大学的相关领域专家,共同探讨中子小角散射这一新型表征技术的前沿科学问题。党委常委、副校长毛军发院士,科学技术发展研究院院长朱新远教授参加论坛并讲话。来自全校近10个院系的80余位教师、科研人员参加。论坛由科学技术发展研究院副院长李卫东主持。

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毛军发在会上致辞。他说,中子散射技术在人类探索科学奥秘、追求真理的过程中具有里程碑意义,能够为推进我校我国开展原创性的科学研究,实现从零到一的科学突破,提供强大坚实的技术支撑。“未来科技论坛”是为广大科研人员提供的前沿问题探讨平台,期望通过深入的研究与科学思想交流,帮助科技工作者找准方向,精准发力,交叉融合,着力研发创新成果,推动原创性、引领性技术的重大突破。他也希望交大的广大科研人员着眼未来,积极承担人类发展的课题与使命,不忘初心,踏实工作,体现交大使命。

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上海交通大学巴黎高科学院/材料科学与工程学院钟圣怡副教授

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中国工程物理研究院中子重点实验室主任孙光爱研究员

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中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室主任门永锋研究员

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香港城市大学物理系主任王循理教授

上海交通大学巴黎高科学院/材料科学与工程学院钟圣怡副教授、 中国工程物理研究院中子重点实验室主任孙光爱研究员、中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室主任门永锋研究员、香港城市大学物理系主任王循理教授以《上海交通大学“洛书”中子小角散射谱仪建设与展望》、《中物院中子科学平台与小角散射装置的应用》等为题,分别介绍了交大中子小角散射谱仪“洛书”的建设现状与计划展望,中子小角散射(SANS)技术针对结晶高分子变形过程中微观结构变化高分子结构研究应用等内容。我校洪亮、刘烽、沈忱作为科研人员代表,分享介绍了在其研究中应用中子小角散射表征技术的体验。

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随后,在场专家学者与听众开展了热烈的研讨。通过此次论坛,各位老师和专家就建设先进的中子散射材料表征平台各抒己见,从材料、化学、生物、物理等不同科研领域出发,为上海交通大学中子小角散射谱仪“洛书”的建设提出了宝贵意见。

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朱新远作总结讲话。他说,作为科学研究的重要支持部门,科学技术发展研究院正在积极进行科技服务与科技支撑改革,全力推进与一流大学相适应的科研管理体制机制建设。中子小角散射表征技术作为一种新型表征技术,能够聚集多学科科学家的智慧,支持多个领域的研究。他希望科研人员积极开展学术思想的讨论交流,活跃且深入地进行科学探索,在学科交叉的基础上探究更多的科学奥秘,实现更多的原创,做出引领性的成果。

“未来科技论坛”是由科学技术发展研究院创办的系列学术研讨活动。论坛鼓励各类奇思妙想和学科交叉,希望通过对前瞻科学问题的讨论,达到充分的学术自由探索。第一、第二期未来科技论坛分别以“半导体合成生物学”、“科技创新的伦理建设和发展”为主题,通过多学科讨论合作,取得了良好的效果。上海交通大学准确把握新时代国家建设的形势要求,与中国工程物理研究院共建“中子科学联合实验室”,以中子应用科学技术为科技创新的着力点,打造跨学科、多领域融合发展的高水平研究平台。基于这一背景,此次论坛通过对中子小角散射表征技术的深入探讨,对大装置建设,学科交叉起到了良好的效果。

郦音悦
钟鸿儒
科学技术发展研究院